Résumé
This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.
Informations générales
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État actuel: PubliéeDate de publication: 2019-06Stade: Norme internationale en cours d'examen systématique [90.20]
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Edition: 1
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Comité technique :ISO/TC 206ICS :81.060.30
- RSS mises à jour
Cycle de vie
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Actuellement
PubliéeISO 21859:2019
Les normes ISO sont réexaminées tous les cinq ans
Stade: 90.20 (En cours d'examen)
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