Тезис
This document specifies a method for measuring and reporting argon cluster sputtering yield volumes of a specific organic material. The method requires one or more test samples of the specified material as a thin, uniform film of known thickness between 50 and 1 000 nanometres on a flat substrate which has a different chemical composition to the specified material. This document is applicable to test samples in which the specified material layer has homogeneous composition in depth and is not applicable if the depth distribution of compounds in the specified material is inhomogeneous. This document is applicable to instruments in which the sputtering ion beam irradiates the sample using a raster to ensure a constant ion dose over the analysis area.
Общая информация
-
Текущий статус: ОпубликованоДата публикации: 2019-05Этап: Систематический пересмотр международного стандарта [90.20]
-
Версия: 1
-
Технический комитет :ISO/TC 201/SC 6ICS :71.040.40
- RSS обновления
Жизненный цикл
-
Сейчас
ОпубликованоISO 22415:2019
Стандарт, который пересматривается каждые 5 лет
Этап: 90.20 (Hа стадии пересмотра)-
00
Предварительная стадия
-
10
Стадия, связанная с внесением предложения
-
20
Подготовительная стадия
-
30
Стадия, связанная с подготовкой проекта комитета
-
40
Стадия, связанная с рассмотрением проекта международного стандарта
-
50
Стадия, на которой осуществляется принятие стандарта
-
60
Стадия, на которой осуществляется публикация
-
90
Стадия пересмотра
-
95
Стадия, на которой осуществляется отмена стандарта
-
00
Появились вопросы?
Ознакомьтесь с FAQ
Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)